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紅外熱像儀的廣泛應(yīng)用及保養(yǎng)

更新時(shí)間:2014-09-30        閱讀量:3188

紅外熱像儀應(yīng)用

  紅外熱像儀在軍事和民用方面都有廣泛的應(yīng)用。隨著熱成像技術(shù)的成熟以及各種低成本適于民用的熱像儀的問(wèn)世,它在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各部門發(fā)揮的作用也越來(lái)越大。在工業(yè)生產(chǎn)中,許多設(shè)備常用于高溫、高壓和高速運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài),應(yīng)用紅外熱成像儀對(duì)這些設(shè)備進(jìn)行檢測(cè)和監(jiān)控,既能保證設(shè)備的安全運(yùn)轉(zhuǎn),又能發(fā)現(xiàn)異常情況以便及時(shí)排除隱患。同時(shí),利用熱像儀還可以進(jìn)行工業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量控制和管理。

  熱成像的優(yōu)勢(shì)自然界中的一切物體的溫度都高于零度,都會(huì)有紅外輻射.這是由于物體內(nèi)部分子熱運(yùn)動(dòng)的結(jié)果。其輻射能量正比于自身溫度的四次方成正比,輻射出的波長(zhǎng)與其溫度成反比。紅外成像技術(shù)就是根據(jù)探測(cè)到的物體的輻射能的大小。經(jīng)系統(tǒng)處理轉(zhuǎn)變?yōu)槟繕?biāo)物體的熱圖像,以灰度級(jí)或偽彩色顯示出來(lái),即得到被測(cè)目標(biāo)的溫度分布從而判斷物體所處的狀態(tài)。林區(qū)背景溫度一般在-40~60攝氏度,而森林可燃物產(chǎn)生的火焰的溫度為60O~1200攝氏度,兩者溫度相差較大。在熱圖像中很容易將可燃物的燃燒情況從地形背景中分離出來(lái)。根據(jù)熱圖像的溫度分布,我們不僅可以判斷火的性質(zhì)還能探測(cè)出火的位置、火場(chǎng)面積、從而估計(jì)火勢(shì)。

  此外,紅外熱像儀在醫(yī)療、治安、消防、考古、交通、農(nóng)業(yè)和地質(zhì)等許多領(lǐng)域均有重要的應(yīng)用。如建筑物漏熱查尋、森林探火、火源尋找、海上救護(hù)、礦石斷裂判別、發(fā)動(dòng)機(jī)檢查、*偵察以及各種材料及制品的無(wú)損檢查等。北京和普威視光電技術(shù)有限公司坐落在*高新產(chǎn)業(yè)基地-----首都中關(guān)村科技園區(qū)內(nèi),是集自主研發(fā)、生產(chǎn)、銷售,擁有核心技術(shù)制造光電設(shè)備和系統(tǒng)解決方案于一體的高科技企業(yè)。

  紅外熱像儀工作原理

  非制冷紅外焦平面探測(cè)器由許多MEMS微橋結(jié)構(gòu)的像元在焦平面上二維重復(fù)排列構(gòu)成,每個(gè)像元對(duì)特定入射角的熱輻射進(jìn)行測(cè)量,其基本原理如圖4所示,a):紅外輻射被像元中的紅外吸收層吸收后引起溫度變化,進(jìn)而使非晶硅熱敏電阻的阻值變化;b):非晶硅熱敏電阻通過(guò)MEMS絕熱微橋支撐在硅襯底上方,并通過(guò)支撐結(jié)構(gòu)與制作在硅襯底上的COMS獨(dú)處電路相連;c):CMOS電路將熱敏電阻阻值變化轉(zhuǎn)變?yōu)椴罘蛛娏鞑⑦M(jìn)行積分放大,經(jīng)采樣后得到紅外熱圖像中單個(gè)像元的灰度值。

  為了提高探測(cè)器的響應(yīng)率和靈敏度,要求探測(cè)器像元微橋具有良好的熱絕緣性,同時(shí)為保證紅外成像的幀頻,需使像元的熱容盡量小以保證足夠小的熱時(shí)間常數(shù),因此MEMS像元一般設(shè)計(jì)成如圖5所示的結(jié)構(gòu)。利用細(xì)長(zhǎng)的微懸臂梁支撐以提高絕熱性能,熱敏材料制作在橋面上,橋面盡量輕、薄以減小熱質(zhì)量。在襯底制作反射層,與橋面之間形成諧振腔,提高紅外吸收效率。像元微橋通過(guò)懸臂梁的兩端與襯底內(nèi)的CMOS讀出電路連接。所以,非制冷紅外焦平面探測(cè)器是CMOS-MEMS單體集成的大陣列器件。

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